[发明专利]一种有机发光二极管阵列基板、制备方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201510446925.3 申请日: 2015-07-27
公开(公告)号: CN104966723B 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 方金钢;刘晓娣;王东方;辛龙宝 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 代理人: 祝亚男
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种有机发光二极管阵列基板、制备方法及显示装置,属于显示技术领域。所述方法包括在基板的像素驱动层上依次形成反射底电极薄膜、第一微腔调整层薄膜及第二微腔调整层薄膜;采用一次构图工艺在基板上形成反射底电极图形和厚度不同的微腔调整层;在微腔调整层上依次形成发光功能层和顶电极层。所述微腔调整层包括所述第一微腔调整层,或,包括所述第一微腔调整层和所述第二微腔调整层。本发明依次在基板的像素驱动层上形成反射底电极薄膜、第一微腔调整层薄膜及第二微腔调整层薄膜,通过一次构图工艺即可在基板上形成反射底电极图形及厚度不同的微腔调整层,简化了生产工艺,节省了生产成本,且所形成的微腔调整层的精度更高。
搜索关键词: 一种 有机 发光二极管 阵列 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种有机发光二极管阵列基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:在基板的像素驱动层上依次形成反射底电极薄膜、第一微腔调整层薄膜及第二微腔调整层薄膜;采用一次构图工艺在基板上形成反射底电极图形和厚度不同的微腔调整层,所述一次构图工艺包括两次刻蚀处理;在所述微腔调整层上依次形成发光功能层和顶电极;其中,所述微腔调整层包括所述第一微腔调整层,或,包括所述第一微腔调整层和所述第二微腔调整层;所述有机发光二极管阵列基板包括多个像素,每个像素包括红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素;其中,所述红色子像素和所述蓝色子像素对应同时设置有所述第一微腔调整层和所述第二微腔调整层的区域,所述绿色子像素对应仅设置有所述第一微腔调整层的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510446925.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top