[发明专利]一类并环结构的近红外光敏剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510448555.7 申请日: 2015-07-28
公开(公告)号: CN105085556A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 姜新东;习东梅;苏亚军;肖林久;赵九丽 申请(专利权)人: 沈阳化工大学
主分类号: C07F5/02 分类号: C07F5/02;A61K41/00;A61P35/00
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司 21205 代理人: 张志刚
地址: 110142 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一类并环结构的近红外光敏剂及其制备方法,涉及一种治疗恶性肿瘤的光动力疗法的光敏剂及其制备方法,本发明提供一类重原子取代近红外aza-BODIPY类光敏剂、其制备方法及其产生单态氧的效率,所述的光敏剂是以氮杂亚甲基二吡咯络合三氟化硼而发展的重原子取代近红外荧光染料aza-BODIPY为母核的新型一系列光敏剂。其通式如式Ⅰ/Ⅱ/Ⅲ/Ⅳ所示。该aza-BODIPY类光敏剂具有并环结构,兼有经典传统染料BODIPY/aza-BODIPY光谱性能等优点。该并环结构的aza-BODIPY类的光敏剂,其吸收波长大于700nm,在长波长单色光源照下,可以深度穿透生物组织;具有低毒性低副作用;电子易于系间窜越,产生单线态氧效率高。
搜索关键词: 一类 结构 红外 光敏剂 及其 制备 方法
【主权项】:
  一类并环结构的近红外光敏剂,其特征在于,所述 一类并环结构的近红外光敏剂其通式如式///所示:;在式I/II中,R'选自‑H、‑Me、‑Et、‑OH、‑OMe、‑OEt、‑N(Me)2、‑N(Et)2等基团;在式III/IV中,R〞选自O或S;X选自Br或I;代表举例如下所示:
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