[发明专利]635纳米的窄带滤光片及其制作方法

摘要

本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征为以玻璃为基板，表面光洁度优于60/40，镀膜的材料选择SiO2和TiO2，基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计24层；第二膜系也是为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计68层。本发明提供成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于3OD，透过率大于90%，具有良好信噪比，满足高精度的激光测距仪的苛刻需要。

主权项

本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征是：玻璃为基板，表面的质量优于60/40；材料为SiO2和TiO2；膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层29纳米、SiO2层132纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层90纳米、SiO2层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层28纳米、SiO2层62纳米、TiO2层48纳米、SiO2层73纳米、TiO2层44纳米、SiO2层67纳米、TiO2层41纳米、SiO2层66纳米、TiO2层41纳米、SiO2层70纳米、 TiO2层39纳米、SiO2层62纳米、TiO2层37纳米、SiO2层63纳米、TiO2层34纳米、SiO2层68纳米、TiO2层53纳米、SiO2层81纳米、TiO2层47纳米、SiO2层77纳米、 TiO2层50纳米、SiO2层84纳米、TiO2层59纳米、SiO2层83纳米、TiO2层49纳米、SiO2层77纳米、TiO2层49纳米、SiO2层84纳米、TiO2层61纳米、SiO2层85纳米、TiO2层48纳米、SiO2层72纳米、TiO2层36纳米、SiO2层75纳米、TiO2层92纳米、SiO2层152纳米、TiO2层97纳米、SiO2层145纳米、TiO2层83纳米、SiO2层144纳米、TiO2层90纳米、SiO2层145纳米、TiO2层85纳米、SiO2层144纳米、TiO2层88纳米、SiO2层145纳米、TiO2层88纳米、SiO2层147纳米、TiO2层93纳米、SiO2层149纳米、TiO2层101纳米、SiO2层170纳米、TiO2层111纳米、SiO2层178纳米、TiO2层103纳米、SiO2层169纳米、TiO2层105纳米、SiO2层175纳米、TiO2层108纳米、SiO2层173纳米、TiO2层104纳米、SiO2层173纳米、TiO2层107纳米、SiO2层173纳米、TiO2层108纳米、SiO2层170纳米、TiO2层103纳米、SiO2层84纳米。