[发明专利]控制紫外光的焦点的方法、控制器及其形成集成电路的装置在审
申请号: | 201510458660.9 | 申请日: | 2015-07-30 |
公开(公告)号: | CN105319867A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
发明(设计)人: | S·拉古纳特;O·R·木二;M·E·普赖尔 | 申请(专利权)人: | 格罗方德半导体公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 英属开曼群*** | 国省代码: | 开曼群岛;KY |
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摘要: | 本申请涉及控制紫外光的焦点的方法、控制器及其形成集成电路的装置。提供用于控制由光刻成像系统产生的紫外光的焦点的方法及控制器,以及利用其形成集成电路的装置。在一具体实施例中,一种方法包括:提供有一阻剂膜设置于其上的一晶圆。通过用紫外光以一偏离法线的入射角照射一光刻掩膜来图案化该阻剂膜使其具有以第一间距形成的第一测试图案以及以不同于该第一间距的第二间距形成的第二测试图案。使用一测量设备,测量该等第一、第二测试图案的无远心性诱发偏移以产生相对偏移资料。该紫外光的焦点的调整基于比较该相对偏移资料与第一、第二测试图案的无远心性诱发偏移间以焦点误差为函数的预定相关性。 | ||
搜索关键词: | 控制 紫外光 焦点 方法 控制器 及其 形成 集成电路 装置 | ||
【主权项】:
一种控制由光刻成像系统产生的紫外光的焦点的方法,其中,该方法包含:提供具有阻剂膜设置于其上的晶圆;用紫外光以偏离法线的入射角,通过照射光刻掩膜,图案化该阻剂膜,使其具有以第一间距形成的第一测试图案以及以不同于该第一间距的第二间距形成的第二测试图案;使用测量设备测量该第一测试图案及该第二测试图案的无远心性诱发偏移,以产生相对偏移资料;基于比较该相对偏移资料与该第一测试图案及该第二测试图案的该无远心性诱发偏移间以焦点误差为函数的预定相关性来调整该紫外光的焦点。
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