[发明专利]光刻机工件台的一体式平衡质量装置在审
申请号: | 201510465244.1 | 申请日: | 2015-07-31 |
公开(公告)号: | CN104991425A | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
发明(设计)人: | 陈兴林;陈震宇;刘杨;付雪微 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 光刻机工件台的一体式平衡质量装置,属于半导体制造装备技术领域,本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫,用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨,作为Y向直线电机的定子部分,X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上,平衡质量块电机驱动平衡质量块运动,从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿,使平衡质量块重新回到平衡位置。 | ||
搜索关键词: | 光刻 机工 体式 平衡 质量 装置 | ||
【主权项】:
光刻机工件台的一体式平衡质量装置,其特征在于,它包括基础框架(1)、平衡质量块(2)、四个垂向气浮垫3a、3b、3c、3d、Y向直线电机导轨机构、X向运动机构和平衡质量块直线电机;平衡质量块(2)为U型结构,U型结构的凹槽走向为Y向;平衡质量块直线电机包括平衡质量块直线电机动子(6)和平衡质量块直线电机定子导轨(7);Y向直线电机导轨机构包括两条Y向电机导轨底座4a、4b和两条Y向电机定子磁钢5a、5b,X向运动机构包括位于两个Y向直线电机动子、X向导轨(9)和X向直线电机;基础框架(1)的上表面设置四个垂向气浮垫3a、3b、3c、3d,所述四个垂向气浮垫3a、3b、3c、3d用于支撑平衡质量块(2)的U型底面的四个角;用于气浮隔离平衡质量块(2)与基础框架(1);基础框架(1)的中心位置设置有平衡质量块直线电机定子导轨(7),该导轨沿X轴方向延伸,平衡质量块直线电机动子(6)设置在平衡质量块(2)的U型底面的下表面,且平衡质量块直线电机动子(6)在平衡质量块直线电机定子导轨(7)上沿X轴方向往返滑动;平衡质量块(2)的两个U型侧面顶端分另设置有Y向电机导轨底座4a、4b,在Y向电机导轨底座4a上设置Y向电机定子磁钢5a,在Y向电机导轨底座4b上设置Y向电机定子磁钢5b;作为Y向直线电机的定子部分;X向导轨(9)安装在Y向直线电机导轨上,与两条Y向导轨成H型;X向导轨(9)的两端分别设置一个Y向直线电机动子8a、8b,Y向直线电机动子与Y向直线电机的定子部分相配合构成Y向电机;Y向电机带动X向运动机构沿Y向运动;平衡质量块(2)在X向运动机构的反作用力下会向相反方向运动,从而缓冲直线电机高速运动产生的反作用力,提高运动控制精度、减小冲击和振动;并且平衡质量块电机驱动平衡质量块(2)运动,从而对由于X向运动机构反作用力造成的平衡质量块(2)的偏移进行补偿,使平衡质量块(2)重新回到平衡位置。
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