[发明专利]测试图形的形成方法有效

专利信息
申请号: 201510471306.X 申请日: 2015-08-04
公开(公告)号: CN106707683B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 杨青 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/44 分类号: G03F1/44;G03F1/36
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种测试图形的形成方法,通过对原始测试图形库中的原始测试图形进行一系列的变换,最终得到第一测试图形和第二测试图形,将所述第一测试图形和第二测试图形添加至原始测试图形库中,形成新的测试图形库。所述新的测试图形库中除了包括多个原始测试图形外,还包括第一测试图形和第二测试图形,大大丰富了新的测试图形库中的测试图形的种类和数量。因此,后续对客户提供的原始设计图形进行拆解检测时,可获得最优的、最准确的第一设计图形和第二设计图形,有助于后续形成良率更高的产品。
搜索关键词: 测试 图形 形成 方法
【主权项】:
一种测试图形的形成方法,其特征在于,包括:提供设计图形库,获得设计图形库中设计图形的最小设计线宽,并获得相邻设计图形之间的最小设计间距;提供原始测试图形库,所述原始测试图形库中具有多个原始测试图形,所述多个原始测试图形具有第一线宽,且相邻原始测试图形之间的距离为第一间距;放大所述多个原始测试图形和多个原始测试图形之间的距离,获得多个过渡测试图形,使所述多个过渡测试图形具有第二线宽,相邻过渡测试图形之间的距离为第二间距,其中,所述第二线宽为最小设计线宽的倍数,所述第二间距为最小设计间距的倍数;在相邻过渡测试图形的中心位置添加中间测试图形,所述中间测试图形的长度方向与相邻测试图形的长度方向一致;缩小所述过渡测试图形对应的倍数,得到第一测试图形,放大所述中间测试图形,得到第二测试图形,所述第一测试图形和第二测试图形均具有最小设计线宽,并且所述第一测试图形和第二测试图形之间的距离为最小设计间距;将所述第一测试图形和第二测试图形添加至原始测试图形库中,形成新的测试图形库。
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