[发明专利]磁动线圈改良结构有效

专利信息
申请号: 201510472053.8 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105742001B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 林定皓;张乔政;林宜侬 申请(专利权)人: 景硕科技股份有限公司
主分类号: H01F5/00 分类号: H01F5/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 王玉双
地址: 中国台湾桃园市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明是一种磁动线圈改良结构,包括基板、至少一线路图案层及导磁强化环,其中基板由电气绝缘材料构成,并包含贯穿孔,线路图案层是由导电材料构成,设置于基板内,并围绕且不接触贯穿孔,导磁强化环是由高导磁材料构成,并设置于贯穿孔内,且完全覆盖贯穿孔的壁面。在磁动线圈改良结构的上表面及下表面上,基板与导磁强化环的连接处为共平面。因此,本发明利用导磁强化环增加磁通密度,形成高导磁元件,可大幅提升电磁效应,能藉以大幅改善磁动线圈的特性,强化整体电磁性能,可应用于需要在很有限容积下提供强力感应磁场的领域。
搜索关键词: 线圈 改良 结构
【主权项】:
一种磁动线圈改良结构,其特征在于,包括:一基板,是由电气绝缘材料构成并在一垂直方向上具有一厚度,且包含在该垂直方向上贯穿该厚度的一贯穿孔,该贯穿孔的横向截面形状为一封闭形;一线路图案层,由一导电材料构成,是设置于该基板内,并围绕该贯穿孔,且不接触该贯穿孔;以及一导磁强化环,是由高导磁材料构成,并设置于该贯穿孔内,且完全覆盖该贯穿孔的壁面,并且该导磁强化环是与该基板在一上部横向表面上及一下部横向表面上分别形成一共平面。
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