[发明专利]在蚀刻材料中制造结构的方法有效
| 申请号： | 201510472718.5 | 申请日： | 2015-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN105334704B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 于尔克·霍夫曼;菲利普·西蒙;米夏埃尔·蒂尔;马丁·赫尔马特施格;霍尔格·费舍尔 | 申请（专利权）人： | 纳侬斯桧布有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 武玉琴;冷文燕 |
| 地址： | 德国巴登*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在蚀刻材料中制造结构的方法，其中借助曝光装置的记录束以依序记录数个子结构的方式在所述蚀刻材料中定义所述结构，其中为了记录所述子结构，依序移动并定位所述曝光装置的记录区并且每次在所述记录区内记录一个子结构，并且为了定位所述记录区，用成像型测量装置检测参考结构。为了校准所述记录区，在移动后的所述记录区内，在记录子结构之前、期间或之后，借助所述记录束在所述蚀刻材料中产生至少一个对应于这个子结构的参考结构元素，其中在移动所述记录区以记录另一子结构之后，用所述成像型测量装置检测所述参考结构元素。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 材料 制造 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在蚀刻材料中制造结构的方法，其中借助曝光装置的记录束以依序记录数个子结构(10)的方式在所述蚀刻材料中定义所述结构，其中为了记录所述子结构(10)，依序移动并定位所述曝光装置的记录区(12)并且每次在所述记录区(12)内记录一个子结构(10)，并且为了定位所述记录区(12)，用成像型测量装置在所述蚀刻材料中检测参考结构，其特征在于，在移动后的所述记录区(12)内，在记录子结构(10)之期间，借助所述记录束在所述蚀刻材料中产生至少一个对应于这个子结构(10)的参考结构元素(14)，其中在移动所述记录区(12)以记录另一子结构(10)之后，用所述成像型测量装置检测所述参考结构元素(14)。
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