[发明专利]膜厚调节器及其制造方法、调节方法、蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201510475626.2 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105177520A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 李晓虎;孙中元 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/24;H01L51/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 鞠永善
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种膜厚调节器及其制造方法、调节方法、蒸镀设备,属于蒸镀技术领域。膜厚调节器包括:框架和至少两个可形变薄膜,至少两个可形变薄膜设置在框架内部,且至少两个可形变薄膜的膜面平行,至少两个可形变薄膜中的每个可形变薄膜上都设置有导电结构和供蒸镀材料分子穿过的过孔;在向至少两个可形变薄膜中的任意两个可形变薄膜上的导电结构施加电压时,由于导电结构间的吸引或排斥,带动任意两个可形变薄膜移动,使任意两个可形变薄膜的过孔的相对位置改变,本发明解决了相关技术中蒸镀膜的厚度的均一性较差的问题,达到了提高蒸镀膜的厚度的均一性的效果,本发明用于蒸镀。
搜索关键词: 调节器 及其 制造 方法 调节 设备
【主权项】:
一种膜厚调节器,其特征在于,所述膜厚调节器包括:框架和至少两个可形变薄膜,所述至少两个可形变薄膜设置在所述框架内部,且所述至少两个可形变薄膜的膜面平行,所述至少两个可形变薄膜中的每个可形变薄膜上都设置有导电结构和供蒸镀材料分子穿过的过孔;在向所述至少两个可形变薄膜中的任意两个可形变薄膜上的导电结构施加电压时,由于所述导电结构间的吸引或排斥,带动所述任意两个可形变薄膜移动,使所述任意两个可形变薄膜的过孔的相对位置改变。
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