[发明专利]离子注入装置及离子束的调整方法有效
| 申请号： | 201510477413.3 | 申请日： | 2015-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN105428193B | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 渡边一浩;高桥裕二;上野勇介 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子注入装置及离子束的调整方法，其课题在于在避免离子注入装置的生产率的下降的同时实现能量精度的提高。本发明的离子注入装置的能量分析狭缝(28)构成为可切换标准狭缝开口(110)与高精度狭缝开口(112)，所述标准狭缝开口用于在所给注入条件下进行的注入处理；所述高精度狭缝开口具有比标准狭缝开口(110)高的能量精度，且为了调整高频线性加速器的加速参数而使用。加速参数取决于所给注入条件，以便使向高频线性加速器供给的离子的至少一部分加速至目标能量，并且使通过射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 离子束 调整 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：高频线性加速器，按照加速参数对所供给的离子进行加速；能量分析磁铁，配设于所述高频线性加速器的下游；能量分析狭缝组件，配设于所述能量分析磁铁的下游；射束测量部，在所述能量分析狭缝组件的下游测量射束电流量；及控制器，根据所给注入条件确定所述加速参数，所述加速参数被确定为，使所述所供给的离子的至少一部分加速至目标能量，并且使通过所述射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当，所述能量分析狭缝组件构成为可切换标准狭缝开口与高精度狭缝开口，所述标准狭缝开口用于在所述所给注入条件下进行的注入处理；所述高精度狭缝开口具有比所述标准狭缝开口高的能量精度，且为了调整所述加速参数而使用。
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