[发明专利]光源装置、照明装置、曝光装置和装置制造方法有效
申请号: | 201510484698.3 | 申请日: | 2015-08-04 |
公开(公告)号: | CN105334705B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 川岛春名 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及光源装置、照明装置、曝光装置和装置制造方法。提供一种光源装置,该光源装置包括:被配置为从具有预先确定的尺寸的发光区域发射光束的光源;和被配置为会聚光束而允许光束出射到外面的会聚器。发光区域具有旋转对称的发光强度分布。会聚器关于被定义为发光区域的旋转对称轴的光轴旋转对称、被设置为包围发光区域、并且具有分别具有用于反射从发光区域发射的光束的反射表面的四个或更多个反射镜。所述四个或更多个反射镜包含反射表面为椭圆形的椭圆表面反射镜和反射表面为球面的球面反射镜。椭圆表面反射镜和球面反射镜沿所述光轴的方向被交替布置,并且,被一个球面反射镜反射的光束进一步被跨着发光区域相对设置的一个椭圆表面反射镜反射,而允许光束出射到外面。 | ||
搜索关键词: | 发光区域 光源装置 反射镜 球面反射镜 反射表面 椭圆表面 曝光装置 旋转对称 照明装置 装置制造 会聚器 出射 光轴 反射 发光强度分布 反射镜反射 旋转对称轴 发射光束 会聚光束 交替布置 相对设置 预先确定 光源 配置 包围 发射 | ||
【主权项】:
1.一种光源装置,其特征在于包括:被配置为从发光区域发射光束的光源;和被配置为会聚光束而允许光束出射到外面的会聚器,其中,所述发光区域具有旋转对称的发光强度分布,会聚器包括四个或更多个反射镜,所述四个或更多个反射镜分别具有用于反射从所述发光区域发射的光束的反射表面,每个反射表面被形成为关于被定义为所述发光区域的旋转对称轴的光轴旋转对称,并且所述四个或更多个反射镜被设置为围绕光源,所述四个或更多个反射镜包含反射表面为椭圆形的椭圆表面反射镜和反射表面为球面的球面反射镜,并且,椭圆表面反射镜和球面反射镜沿所述旋转对称轴的方向被交替布置,并且,被一个球面反射镜反射的光束进一步被跨着所述发光区域相对设置的一个椭圆表面反射镜反射,而允许光束出射到外面。
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