[发明专利]一种薄膜氮化镓基发光二极管的制备方法有效
申请号: | 201510488363.9 | 申请日: | 2015-08-11 |
公开(公告)号: | CN105047778B | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 彭康伟;林素慧;许圣贤;林潇雄;刘传桂;郑建森 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/48 |
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地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜氮化镓基发光二极管的制备方法,通过先去除倒装发光二极管的蓝宝石衬底,再黏附于保护膜上,藉由溅镀技术在倒装发光二极管的微结构之上形成一Al2O3薄层,制得超薄LED芯片,从而大大降低热阻,并可降低整体LED封装体大小及封装成本;此外,薄膜发光二极管可实现无金线互联,提高封装可靠性,降低封装成本;再者,由于去除了较厚的蓝宝石衬底,减少了光线在蓝宝石衬底内的损失,更加有利于光提取率。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 氮化 发光二极管 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜氮化镓基发光二极管的制备方法,包括以下工艺步骤:(1)提供一蓝宝石衬底;(2)在所述蓝宝石衬底上形成发光外延层;(3)在所述发光外延层上制作电极,形成倒装发光二极管;(4)将所述倒装发光二极管倒置,黏附于保护膜上,使得蓝宝石衬底朝上;(5)去除所述蓝宝石衬底,裸露出所述发光外延层;(6)采用溅镀工艺在所述发光外延层上沉积一Al2O3薄层,厚度为5~30μm;(7)去除所述保护膜,并将所述倒装发光二极管再次倒置,制得薄膜氮化镓基发光二极管。
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