[发明专利]基于γ面LiAlO2衬底上黄光LED材料及其制作方法有效
申请号: | 201510509240.9 | 申请日: | 2015-08-18 |
公开(公告)号: | CN105098016B | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 许晟瑞;任泽阳;郝跃;李培咸;张进成;姜腾;蒋仁渊;马晓华 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心61205 | 代理人: | 王品华,朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于γ面LiAlO2衬底上黄光LED材料及其制作方法。其生长步骤是1)将γ面LiAlO2衬底置于MOCVD反应室中进行热处理;2)在热处理后的衬底上生长厚度为10‑200nm的低温成核层;3)在成核层之上生长厚度为0.2‑100μm,O掺杂浓度为3×1017cm‑3~3×1019cm‑3,C掺杂浓度为1×1017cm‑3~2×1019cm‑3的高温有源层;4)在有源层之上生长厚度为0.01‑10μm,Mg掺杂浓度为2×1017cm‑3~3×1019cm‑3的高温p型GaN层。本发明具有工艺简单,成本低,发光效率高的优点,可用于制作非极性m面GaN黄光发光二极管。 | ||
搜索关键词: | 基于 lialo sub 衬底 上黄光 led 材料 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种基于γ面LiAlO2衬底上黄光LED材料,自上而下分别为p型GaN层,有源层,成核层和γ面LiAlO2衬底,其特征在于有源层使用C掺杂和O掺杂的n型m面GaN层,以在GaN中引入C的深能级,为发黄光的电子、空穴提供复合平台。
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