[发明专利]一种原位生长制备氧化钴纳米片超电容电极材料的方法有效

专利信息
申请号: 201510509657.5 申请日: 2015-08-18
公开(公告)号: CN105118685B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 戴玉明;朱帅帅;王章忠;赵玉全;李长振;吴文婷 申请(专利权)人: 南京工程学院
主分类号: H01G11/86 分类号: H01G11/86;H01G11/46
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司32224 代理人: 董建林
地址: 211167 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种原位生长制备氧化钴纳米片超电容电极材料的方法,包括对钴片基体进行预处理,去除其表面的油脂和氧化物;将预处理过的钴片基体置于无水乙醇中进行超声震荡浸泡,取出后烘干,真空保存待用;将待用钴片进行氧化处理,得到氧化钴超电容电极材料。本发明方法简单、高效、制备成本低、环境污染小,制得的氧化钴纳米片电极材料具有优异的电容性能。
搜索关键词: 一种 原位 生长 制备 氧化钴 纳米 电容 电极 材料 方法
【主权项】:
一种原位生长制备氧化钴纳米片超电容电极材料的方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、对钴片基体进行预处理,去除其表面的油脂和氧化物;S2、将预处理过的钴片基体置于无水乙醇中进行超声震荡浸泡,取出后烘干,真空保存待用;S3、将步骤S2制得的待用钴片进行氧化处理,得到氧化钴超电容电极材料。
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