[发明专利]用于产生均匀磁场的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201510509718.8 申请日: 2015-08-19
公开(公告)号: CN105390228B 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: A·P·帕兰;B·P·小萨里诺;D·P·特伦蒂诺 申请(专利权)人: 亚德诺半导体集团
主分类号: H01F7/00 分类号: H01F7/00;G01D5/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 王莉莉
地址: 百慕大群岛(*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文提供了用于产生均匀磁场的装置和方法。在某些配置中,磁性结构包括位于壳体内的一对或多对磁体。每对磁体被平行地布置且包括相对于另一个极性上反转的磁极。例如,在某些实现中,第一对磁体包括并排地布置的第一磁体和第二磁体,第一磁体的北极与第二磁体的南极相邻且第一磁体的南极与第二磁体的北极相邻。使用可以限制磁通量并且减低杂散磁场的磁性重定向材料实现壳体。磁性结构可以被用于在感兴趣区域内产生基本均匀的磁场。
搜索关键词: 用于 产生 均匀 磁场 装置 方法
【主权项】:
一种装置,包括:可转动壳体,包括:包括第一磁性重定向材料的第一壁;和相对于所述第一壁的第二壁,所述第二壁包括所述第一磁性重定向材料;和至少两个位于所述可转动壳体内所述第一壁和所述第二壁之间的磁体,其中所述至少两个磁体包括平行磁化且彼此相对的第一对磁体,其中所述可转动壳体相对于包括所述至少两个磁体而没有所述可转动壳体的配置改变所述至少两个磁体的磁场,其中所述第一壁和所述第二壁与所述第一对磁体的每一个磁体的北南极轴平行地设置,其中所述第一壁只接触所述至少两个磁体中的一个磁体并且所述第二壁只接触所述至少两个磁体中的不同的磁体。
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