[发明专利]渗透装置及方法

摘要

本发明公开了一种渗透装置及方法。该渗透装置包括加热室、旋转托盘、旋转托架、料盒、升降机构和传动装置，其中，加热室具有环形槽，旋转托盘设置在加热室下端的开口端下方；旋转托架安装在旋转托盘上；料盒设置在旋转托架上；旋转托架和料盒能够在升降机构作用下，进行上下升降运动；旋转托架能够在传动装置的作用下在环形槽内自转且可绕旋转托盘中心轴公转。本发明提供的渗透方法包括装料、抽真空、高温渗透、冷却和取料等步骤。本发明的渗透装置和方法既实现了磁体位置的条件等同性，又实现了加热环境的条件等同性，从而满足了烧结磁体在高温渗透和风冷却时所必需的温度条件一致性，保证了产品性能的一致性。

主权项

一种用于磁体表层渗透处理的渗透装置，其特征在于，该渗透装置包括：加热室，具有环形槽并在下端设置有加热室开口端；旋转托盘，设置在所述加热室开口端下方；旋转托架，安装在所述旋转托盘上；料盒，设置在所述旋转托架上；升降机构，用于使所述旋转托盘上下升降运动，使得旋转托架和料盒从所述加热室开口端进入所述环形槽内或从所述环形槽退出离开所述开口端；和传动装置，使所述旋转托架能够在环形槽内自转且可绕所述旋转托盘中心轴公转；其中，所述旋转托盘包括：托盘保温构件，用于为所述加热室和所述料盒进行保温；和支撑构件，设置在所述托盘保温构件下方，所述支撑构件内部具有冷却通道；其中，所述料盒底部具有凸台，所述料盒的上盖具有凹槽，所述料盒的凸台与所述料盒的凹槽设置为能够配合实现不同料盒的同心定位叠置；其中，所述旋转托架上部具有凹槽，所述旋转托架的凹槽与所述料盒底部的凸台设置为能够配合实现所述料盒与所述旋转托架的同心定位放置；其中，所述加热室包括：加热构件，设置在所述环形槽内壁两侧，所述加热构件与所述旋转托架中心的距离相同，对料盒进行双侧等距加热；和加热室保温构件，所述加热室保温构件形成所述环形槽，其中加热室保温构件表层为反射屏，所述加热室保温构件内部填充有耐火保温材料；其中，所述的渗透装置为渗透炉。