[发明专利]逆作法中基坑出土洞口的内支撑梁结构及施工方法有效

专利信息
申请号: 201510522497.8 申请日: 2015-08-24
公开(公告)号: CN105113510B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 葛志鹏;李建亭;吴昊;赵亚军 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E02D17/02 分类号: E02D17/02
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司31229 代理人: 曾耀先
地址: 200135 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种基坑出土洞口的内支撑梁结构及施工方法,该结构包括立设于基坑内且相对设置的第一立柱;设于所述第一立柱之上的支座;形成于所述支座之上的第一加高柱;支设于所述第一加高柱之间的支撑梁,所述支撑梁的顶部与所述第一加高柱的顶部齐平;以及形成于所述支撑梁和所述第一加高柱之间的加腋梁。本发明的支撑梁在保证基坑安全的前提下,调整出施工需要的空间,为逆作法施工提供了极大的便利条件。采用形成门型结构的支撑梁结构,支撑梁产生的自重会在拱角处出现一个与基坑内支撑轴线向内的压力反方向的推力,故能抵消部分基坑向内的被动土压力值,提供基坑支护结构稳定性。
搜索关键词: 作法 基坑 出土 洞口 支撑 结构 施工 方法
【主权项】:
一种逆作法中基坑出土洞口的内支撑梁结构,其特征在于,包括:立设于基坑内且相对设置的第一立柱;设于所述第一立柱之上的支座;形成于所述支座之上的第一加高柱;支设于所述第一加高柱之间的支撑梁,所述支撑梁的顶部与所述第一加高柱的顶部齐平;以及形成于所述支撑梁和所述第一加高柱之间的加腋梁,所述加腋梁具有倾斜面;进一步地,还包括立设于所述基坑内且与所述第一立柱相邻的第二立柱,所述第二立柱之上设有支座和第二加高柱,所述第二加高柱和所述第一加高柱之间设有第一反向腋梁。
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