[发明专利]一种蜡纸掩模及其制备方法

摘要

本发明提供了一种蜡纸掩模的制备方法及其应用，本发明通过将重均分子量为50000～950000的聚甲基丙烯酸甲酯在曝光剂量为210～430μC/cm2的条件下曝光，然后定影，显影得到蜡纸掩模，使得制备得到的蜡纸掩膜在一次性成型的同时，该掩膜同时含有用于纳米颗粒成型的含孔隙的薄膜层以及含较大腔体的支撑层，且支撑层中的空腔位于孔的下方，且空腔的横截面积大于孔隙的横截面积，进而使得该掩膜与衬底能够紧密结合，用于纳米颗粒的成型时，有效降低晕影效应。

主权项

一种蜡纸掩模的制备方法，包括：对涂覆聚甲基丙烯酸甲酯的样品曝光、显影以及定影，得到蜡纸掩膜，所述聚甲基丙烯酸甲酯的重均分子量为50000～950000；所述曝光的曝光剂量为210～430μC/cm²。