[发明专利]一种遮光层的制作方法及阵列基板有效
| 申请号： | 201510528836.3 | 申请日： | 2015-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN105206564B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 杜海波;申智渊 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种遮光层的制作方法包括：提供一阵列基板；在所述阵列基板背面上涂敷感光光阻；将预先制作好的纳米压印模具贴合在所述阵列基板背面上，以使所述感光光阻填充到所述纳米压印模具上的空腔上；对涂敷有所述感光光阻的所述阵列基板背面进行曝光，将所述空腔中的所述感光光阻固化在所述阵列基板背面上；去除所述空腔外区域的所述感光光阻，以形成遮光层。本发明能有效降低遮光层的制作成本，并能改善因遮光层边坡导致电性不良的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 遮光 制作方法 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种遮光层的制作方法，其特征在于，所述遮光层的制作方法包括：提供一阵列基板，所述阵列基板正面包括一通道层；在所述阵列基板背面上涂敷感光光阻；所述感光光阻在光作用下发生聚合固化，可阻止光的穿透，其中，采用液态光固化Ink材料作为所述感光光阻；将预先制作好的纳米压印模具贴合在所述阵列基板背面上，以使所述感光光阻填充到所述纳米压印模具上的空腔上；所述空腔处为透光区域，其他位置为不透光区域；对涂敷有所述感光光阻的所述阵列基板背面进行曝光，将所述空腔中的所述感光光阻固化在所述阵列基板背面上；去除所述空腔外区域的所述感光光阻，以形成遮光层，其中所述遮光层的位置对应所述通道层的位置。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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