[发明专利]一种褶皱状石墨烯的制备方法有效
申请号: | 201510532088.6 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN105060286B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 狄增峰;戴家赟;王刚;郑晓虎;薛忠营;史晓华;张苗 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | C01B32/186 | 分类号: | C01B32/186 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种褶皱状石墨烯的制备方法,包括提供一催化基底,将所述催化基底放入生长腔室,往所述生长腔室通入碳源,并将所述催化基底加热至预设温度,在所述催化基底表面生长得到石墨烯;在非氧化性保护气氛下,调节降温速率,使所述石墨烯表面出现预设高度、宽度及密度的褶皱。本发明以催化基底例如半导体材料锗(体锗、绝缘体上锗、体硅上外延锗、三五族上外延锗等)为催化剂,通过气态或固态碳源在催化基底表面制备石墨烯,在非氧化性气氛保护下,调节降温速率(200℃/min‑1℃/min),可以方便高效的控制制备的石墨烯表面褶皱的形貌(高度、宽度)及密度,制得的褶皱状石墨烯在传感器、柔性电子器件、生物等领域具有重要应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 褶皱 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种褶皱状石墨烯的制备方法,其特征在于,包括:提供一催化基底,将所述催化基底放入生长腔室,往所述生长腔室通入碳源,并将所述催化基底加热至预设温度,在所述催化基底表面生长得到石墨烯;在非氧化性保护气氛下,调节降温速率,使所述石墨烯表面出现预设高度、宽度及密度的褶皱;其中,将降温速率调节至大于100℃/min,得到平均褶皱高度大于1.5nm的褶皱状石墨烯;或者将降温速率调节至5~100℃/min,得到平均褶皱高度为0.8~1.5nm的褶皱状石墨烯;或者将降温速率调节至小于5℃/min,得到平均褶皱高度小于0.8nm的褶皱状石墨烯。
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