[发明专利]一种提高铜箔与基材间抗剥离值的方法有效

专利信息
申请号: 201510537805.4 申请日: 2015-08-28
公开(公告)号: CN105163518B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 樊斌锋;王建智;韩树华;张欣;何铁帅;李伟;段晓翼 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: H05K3/38 分类号: H05K3/38
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 472500 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明属于铜箔制备技术领域,具体涉及一种提高铜箔与基材的抗剥离性能的方法。该方法包括初始铜箔的一次处理、二次处理、粘合剂粘结等步骤。为了提高铜箔与基材间的抗剥离值,一方面是要幅度提高铜箔M面铜镏山峰高度,即提高RZ值,另一方面集中在基材的表处理阶段选用特殊的粘合剂,从而增大铜箔与基材的粘合力。本发明从上述两个方面同时着手,以提高铜箔与基材间的抗剥离值。经过连续两次处理后,初始铜箔与基材聚乙烯树脂粘结片压板后测得抗剥离值可达0.5N/mm左右,已经基本可以满足实际使用要求。配合粘合剂的选择,为制备具有较高抗剥离值性能的线路板,尤其是锂离子电池过电流保护片奠定了较好的技术基础。
搜索关键词: 铜箔 基材 抗剥离 粘合剂 制备技术领域 过电流保护 聚乙烯树脂 抗剥离性能 锂离子电池 线路板 二次处理 技术基础 一次处理 表处理 粘合力 粘结片 高抗 铜镏 压板 粘结 制备 剥离 配合
【主权项】:
1.一种提高铜箔与基材间抗剥离值的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)初始铜箔的一次处理,对生箔机产出的初始铜箔的M面进行粗化、固化一次处理以提高M面铜瘤高,一次处理后铜箔相较于初始铜箔增重8~11g/m2,此时铜箔的RZ值由初始的4~6µm 变化为9~13µm;所述初始铜箔为30µm厚度的铜箔成品;(2)二次处理,对步骤(1)中一次处理后铜箔的M面继续进行粗化、固化二次处理以提高其RZ值,二次处理后铜箔相较于一次处理后铜箔增重18~22g/m2,此时铜箔的RZ值由一次处理后的9~13µm变化为13~15µm;(3)粘合剂粘结,将步骤(2)中二次处理后铜箔与基材间采用特殊的粘合剂粘结;所述特殊的粘合剂为KBE‑903硅烷。
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