[发明专利]于非平面输出晶体管的非平面静电放电装置及其共同制造在审

专利信息
申请号: 201510542658.X 申请日: 2015-08-28
公开(公告)号: CN105390442A 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 李建兴;J·辛格;M·普拉布;A·库马尔;M·I·纳塔拉延;季明华 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/02
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 开曼群岛;KY
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用于非平面输出晶体管的非平面静电放电装置及其共同制造,其技术包括:提供非平面半导体结构,该结构包含具有属于n型或p型的阱的半导体基板。该所提供的非平面结构进一步包含耦合至该基板的一或数个增高半导体结构以及类型与该阱相反的一或数个各自包含源极、漏极及栅极的非平面晶体管,该非平面结构进一步包含在该一或数个增高结构上的一或数个寄生双载子接面晶体管(BJT),各个BJT包含位于该增高结构上的集极及射极以及作为该阱的基极,以及包含用于该BJT的该基极的阱接触。技术进一步包含使该非平面晶体管的该漏极及该BJT的该集极电耦合至电路的输出,以及使该非平面晶体管的该源极、该BJT的该射极及该阱接触电耦合至该电路的接地。
搜索关键词: 平面 输出 晶体管 静电 放电 装置 及其 共同 制造
【主权项】:
一种方法,包含:提供非平面半导体结构,该结构包含:半导体基板,其包含属于第一类型的阱,该第一类型包含n型及p型中的一者;至少一个增高半导体结构,其耦合至该基板;非平面晶体管,其属于与该第一类型相反的第二类型,该晶体管位于该至少一个增高结构上,该非平面晶体管包含源极、漏极及栅极;以及寄生双载子接面晶体管(BJT),其在该至少一个增高结构上,该BJT包含在该至少一个增高结构上的集极及射极以及含有该阱的基极;使该非平面晶体管的该漏极及该BJT的该集极电耦合至电路的输出;以及使该非平面晶体管的该源极及该BJT的该射极电耦合至该电路的接地。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格罗方德半导体公司,未经格罗方德半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510542658.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top