[发明专利]常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法有效
申请号: | 201510546241.0 | 申请日: | 2015-08-31 |
公开(公告)号: | CN105200399B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 祁鹏;王智;苏俊铭 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;H01L21/283 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,包括:检测得到全年大气压力变化趋势;将全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间;设定每个压力范围区间内薄膜的生长时间,以使薄膜达到目标厚度;按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。本发明的常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,可以减小在全年不同的压力下所得到的薄膜厚度差异,实现常压炉管生长的薄膜厚度的可控性。 | ||
搜索关键词: | 常压 炉管 生长 薄膜 厚度 控制 方法 | ||
【主权项】:
1.一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,其特征在于,包括:检测得到全年大气压力变化趋势;将所述全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间;不同的压力范围区间在选取的时候有一定的重叠;然后,根据常压炉管生长的薄膜厚度与全年的大气压力的变化关系来确定:每个所述压力范围区间内薄膜的生长时间,以使薄膜达到目标厚度;其中,通过分析薄膜的厚度与大气压力的关系拟合成的线性关系图,根据实际的大气压力,对应得到线性关系图中对应的薄膜厚度,该薄膜厚度和目标厚度具有差异,根据目标厚度和该薄膜厚度的差异来计算在实际大气压力下达到目标厚度所需的生长时间;按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510546241.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的