[发明专利]常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法有效

专利信息
申请号: 201510546241.0 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN105200399B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 祁鹏;王智;苏俊铭 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;H01L21/283
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,包括:检测得到全年大气压力变化趋势;将全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间;设定每个压力范围区间内薄膜的生长时间,以使薄膜达到目标厚度;按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。本发明的常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,可以减小在全年不同的压力下所得到的薄膜厚度差异,实现常压炉管生长的薄膜厚度的可控性。
搜索关键词: 常压 炉管 生长 薄膜 厚度 控制 方法
【主权项】:
1.一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法,其特征在于,包括:检测得到全年大气压力变化趋势;将所述全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间;不同的压力范围区间在选取的时候有一定的重叠;然后,根据常压炉管生长的薄膜厚度与全年的大气压力的变化关系来确定:每个所述压力范围区间内薄膜的生长时间,以使薄膜达到目标厚度;其中,通过分析薄膜的厚度与大气压力的关系拟合成的线性关系图,根据实际的大气压力,对应得到线性关系图中对应的薄膜厚度,该薄膜厚度和目标厚度具有差异,根据目标厚度和该薄膜厚度的差异来计算在实际大气压力下达到目标厚度所需的生长时间;按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。
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