[发明专利]显影方法和显影装置有效

专利信息
申请号: 201510556969.1 申请日: 2015-09-02
公开(公告)号: CN105404102B 公开(公告)日: 2018-09-21
发明(设计)人: 寺下裕一;竹口博史;下青木刚;吉原孝介;井关智弘 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;朱弋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供能够在利用显影液对曝光后的基板进行显影时对基板的面内的显影的进展程度而言有助于面内均匀性的提高的显影方法等。对被水平保持于可旋转的基板保持部的曝光后的基板,使用具有与上述基板相对地设置的接触部的第一显影液喷嘴,在基板的表面的一部分形成积液,使第一显影液喷嘴在旋转的基板的上方移动而将积液扩展到基板的整个表面,进行显影处理。而且,在进行该显影处理之前或之后,为了使基板的面内的显影的进展程度的分布均匀,在使基板旋转的状态利用第二显影液喷嘴对基板的表面供给显影液,之后,来自第一、第二显影液喷嘴的显影液的供给在从基板表面除去先前供给的显影液之后进行。
搜索关键词: 显影 方法 装置
【主权项】:
1.一种显影方法,其特征在于,包括:将曝光后的基板保持于可旋转的基板保持部的步骤;显影液展开步骤,其包括:从第一显影液喷嘴的排出口排出显影液,在所述基板保持部所保持的基板的表面上形成显影液的积液的步骤,其中,所述第一显影液喷嘴包括具有被设置成与所述基板的表面相对的接触部的喷嘴,所述接触部比所述基板的表面小;和接着在所述接触部与所述积液接触的状态下通过将排出显影液的所述第一显影液喷嘴从正在旋转的基板的中央部和周缘部的一方侧移动到所述中央部和所述周缘部的另一方侧而使所述显影液的积液扩展至基板的整个表面的步骤;显影液供给步骤,在使基板旋转的状态下从第二显影液喷嘴向基板的表面供给显影液,从而使由所述显影液展开步骤进行的所述基板的面内的显影的进展程度的分布均匀,其中所述显影液供给步骤是对与其它区域相比显影不足的区域供给显影液来加速显影不足的区域中的显影的显影调整步骤;和在所述显影液展开步骤与所述显影液供给步骤之间进行的、将所述基板的表面上的显影液除去的步骤,所述第一显影液喷嘴和所述第二显影液喷嘴分别由单独的喷嘴构成。
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