[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201510566774.5 申请日: 2015-09-08
公开(公告)号: CN105177507B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 张永峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及蒸镀技术领域,公开了一种蒸镀坩埚及蒸镀设备,以提高蒸镀材料利用率,提高蒸镀效率。蒸镀坩埚包括坩埚本体以及与所述坩埚本体相连通的坩埚口,所述坩埚口的侧壁分布有多个惰性气体通入喷嘴。将该蒸镀坩埚应用于蒸镀设备中,通过多个惰性气体通入喷嘴向坩埚口内通入惰性气体,可以使惰性气体分子与坩埚口内的蒸镀气体分子产生碰撞,从而增加蒸镀气体分子向上方运动的动能,进而使得飞向基板表面并沉积的蒸镀气体分子大大增加。相比现有技术,该方案可以提高蒸镀材料利用率,提高蒸镀效率。
搜索关键词: 坩埚 设备
【主权项】:
一种蒸镀坩埚,其特征在于:包括坩埚本体以及与坩埚本体相连通的坩埚口,所述坩埚口的侧壁分布有多个惰性气体通入喷嘴;所述坩埚口呈漏斗状,所述多个惰性气体通入喷嘴斜向上朝向坩埚口的顶部;所述多个惰性气体通入喷嘴沿高度方向分为至少两层,每层的惰性气体通入喷嘴水平环列分布,较高一层惰性气体通入喷嘴与水平方向的夹角,大于较低一层惰性气体通入喷嘴与水平方向的夹角。
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