[发明专利]通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿

摘要

本发明公开了通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿的技术。光栅单元配置为针对给定帧内的相邻像素生成不同的采样模式。此外，光栅单元可以调整帧之间的采样模式。光栅单元包括索引单元，其选择采样模式表用于当前帧使用。对于给定像素，索引单元从所选择的采样模式表中提取采样模式。所提取的采样模式用来生成用于像素的覆盖信息。用于所有像素的覆盖信息随后用来生成图像。结果图像可随后被滤波以较少或移除由采样位置的改变所引起的伪影。

主权项

1.一种图形子系统，包括：第一采样模式表，所述第一采样模式表包括第一多个条目；以及索引单元，所述索引单元配置为：生成到所述第一采样模式表的第一索引，所述第一索引引用所述第一多个条目中所包括的条目的第一子集，以及从所述第一采样模式表中提取所述条目的第一子集，其中所述条目的第一子集中所包括的第一条目指示第一帧的第一像素内的第一位置，第一样本将在所述第一位置处生成，其中所述索引单元进一步配置为确定与所述第一帧相关联的帧号，并基于所述帧号从多个采样模式表中选择所述第一采样模式表。