[发明专利]一种改善管状基底内表面沉积薄膜均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种改善管状基底内表面沉积薄膜均匀性的方法，（1）将管状基底放置于反应室内，将侧壁上均匀分布有若干通孔的进气管置于所述管状基底内；（2）对管状基底进行加热；（3）通过所述进气管向反应室内通入反应前驱体进行镀膜。本发明一种改善管状基底内表面沉积薄膜均匀性的方法，能够显著改善管状基底内表面沉积薄膜的均匀性。

主权项

一种改善管状基底内表面沉积薄膜均匀性的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将管状基底放置于反应室内，将侧壁上均匀分布有若干通孔的进气管置于所述管状基底内；（2）沿所述管状基底长度方向对其进行梯度加热，对所述管状基底的进气管插入的一端加热温度最低、另一端加热温度最高；（3）通过所述进气管向反应室内通入反应前驱体进行镀膜；所述步骤（1）中，进气管上通孔的分布方式为：沿进气管圆周均匀分布一组通孔，沿进气管轴线方向，均匀分布多组通孔。