[发明专利]等离子体处理装置用的部件和部件的制造方法有效
申请号: | 201510578768.1 | 申请日: | 2015-09-11 |
公开(公告)号: | CN105428195B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 长山将之;三桥康至;虻川志向;永井正也;金泽义典;仁矢铁也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社;东华隆株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J9/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;程采 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题在于抑制从氟化钇制的喷镀被膜产生微粒。本发明的解决方法在于提供一种在等离子体处理装置内被暴露于等离子体中的部件。该部件具有基材和被膜。基材例如为铝制或铝合金制。可以在基材的表面形成耐酸铝膜。被膜通过在包括基材或设置于该基材上的层的基底的表面上喷镀氟化钇而形成。该部件的被膜内的气孔率为4%以下,该被膜的表面的算术平均粗糙度(Ra)为4.5μm以下。 | ||
搜索关键词: | 被膜 基材 等离子体处理装置 氟化钇 等离子体 算术平均粗糙度 表面形成 铝合金制 耐酸铝膜 气孔率 基底 铝制 喷镀 上喷 暴露 制造 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置用的部件的制造方法,其特征在于,包括:对通过喷镀形成被膜的基底的表面进行表面调整的工序,该基底的表面包括基材的表面或形成于该基材的表面的层的表面;和通过氟化钇的喷镀,在所述表面上形成被膜的工序,在形成所述被膜的工序中,使用高速火焰喷镀法或大气压等离子体喷镀法,在形成所述被膜的工序中,在沿着高速火焰喷镀法中放出火焰的喷镀枪的喷嘴、或者大气压等离子体喷镀法中放出等离子体射流的喷镀枪的喷嘴的中心轴线的方向,向从该喷镀枪的喷嘴向下游侧远离的位置或者该喷镀枪的喷嘴的前端位置,供给包含具有1μm以上8μm以下的平均粒径的氟化钇颗粒的浆料,在形成所述被膜的工序中采用高速火焰喷镀法,供给所述浆料的位置为在沿着所述中心轴线的方向上距离所述喷嘴的前端0mm以上100mm以下的范围的位置,或者,在形成所述被膜的工序中采用大气压等离子体喷镀法,供给所述浆料的位置为在沿着所述中心轴线的方向上距离所述喷嘴的前端0mm以上30mm以下的范围的位置,在形成所述被膜的工序中,供给所述浆料的浆料供给用喷嘴的中心轴线相对于所述喷镀枪的喷嘴的所述中心轴线、在该喷镀枪的喷嘴的前端侧所成的角度为45度以上135度以下。
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