[发明专利]一种毫米波高分辨率成像介质透镜天线设计方法有效
申请号: | 201510580282.1 | 申请日: | 2015-09-12 |
公开(公告)号: | CN105281044B | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 陈其科;周景石;孙震;朱贵德;李道通;张永鸿;林先其;樊勇 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01Q19/06 | 分类号: | H01Q19/06 |
代理公司: | 成都科奥专利事务所(普通合伙)51101 | 代理人: | 王蔚 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种毫米波高分辨率成像介质透镜天线的设计方法,该方法是光学透镜设计技术和毫米波天线设计理论相结合的一种设计方法,涉及毫米波天线技术领域。本发明专利引用光学透镜曲面,通过光学设计方法优化系统的波像差和几何像差,使得馈源天线单元在物平面上的‑3dB光斑直径最小,各个馈源天线单元的增益差值小于1dB。本发明具有设计方法简单易行的特点,且对毫米波透镜天线的分辨率提出了创新性定义。本发明可应用于毫米波成像系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 毫米波 高分辨率 成像 介质 透镜天线 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种毫米波高分辨率成像介质透镜天线的设计方法,其特征在于:步骤一,将点源放置于物平面上,将系统的波像差定为主优化目标,将球差、RMS半径和垂轴像差定为次优化目标,设置一组透镜曲面参数的初始值进行参数优化,首先使系统的波像差达到极小值;步骤二,将馈源天线设置在像方聚焦曲面上,计算馈源天线在物平面上形成的光斑尺寸,依据光斑中心点向外场强下降3dB时的光斑直径d,优化馈源天线排列方式,进而使得系统在物平面上形成的光斑直径d达到最小;步骤三,改变透镜曲面参数的初始值,重复步骤一和步骤二,使得系统在物平面上形成的光斑直径d达到最小。
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