[发明专利]面位置检测装置、曝光装置及曝光方法在审
| 申请号： | 201510583526.1 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN105204302A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 日高康弘;长山匡 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种面位置检测装置，其可以在实质上不受在穿过了反射面的光束中产生的偏光成分所致的相对的位置错移等的影响，高精度地检测出受检面的面位置。投射系统具备具有第一反射面(7b、7c)的投射侧棱镜构件(7)。受光系统具备具有与投射侧棱镜构件对应地配置的第二反射面(8b、8c)的受光侧棱镜构件(8)。还具备用于补偿穿过了第一反射面及第二反射面的光束的偏光成分所致的相对的位置错移的位置错移补偿构件。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 检测 装置 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种面位置检测装置，具备从倾斜方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的光束的受光系统，并基于该受光系统的输出来检测出上述受检面的面位置，该面位置检测装置的特征是，上述投射系统具备第一反射面，上述受光系统具备第二反射面，该面位置检测装置还具备位置错移补偿构件，其用于补偿穿过了上述投射系统的上述第一反射面及上述受光系统的上述第二反射面的光束的偏光成分所致的相对的位置错移。
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