[发明专利]抛光浆料的再生方法、基板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510586902.2 申请日: 2015-09-15
公开(公告)号: CN105419645A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 濑户畅介;伊藤正文 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;B24B1/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及抛光浆料的再生方法、基板的制造方法。本发明提供抛光浆料的再生方法等,所述抛光浆料的再生方法可以抑制抛光浆料中抛光屑聚集物的混杂、可以易于实现基板制造效率的提高及成品率的提高等。本发明的抛光浆料的再生方法包括再生由于对原板的表面进行抛光而混入有该原板的成分的抛光浆料的再生工序。原板的组成至少包含氧化铝和碱土金属氧化物。在再生工序中,向由于抛光而从原板混入了氧化铝和碱土金属氧化物的抛光浆料中加入酸,然后从抛光浆料中除去氧化铝和碱土金属氧化物,由此再生抛光浆料。
搜索关键词: 抛光 浆料 再生 方法 制造
【主权项】:
一种抛光浆料的再生方法,其中,所述再生方法包括再生由于对原板的表面进行抛光而混入了所述原板的成分的抛光浆料的再生工序;所述原板的组成至少包含氧化铝和碱土金属氧化物;在所述再生工序中,向由于抛光而从所述原板混入了所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的所述抛光浆料中加入酸,然后从所述抛光浆料中除去所述氧化铝和所述碱土金属氧化物,由此再生所述抛光浆料。
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