[发明专利]电感耦合等离子处理装置

摘要

本发明涉及电感耦合等离子处理装置，本发明公开一种感应场等离子处理装置，包括：腔室主体；电介质组装体，设置成覆盖所述长方形开口部，包括多个长方形电介质及支撑所述多个电介质的格子框架；基板支架，气体喷射部；天线部，在所述处理空间形成感应场，其中，所述格子框架，包括：最外廓框架，以所述长方形开口部为基准而形成最外廓；一个以上的内侧框架，位于所述最外廓框架的内侧，从所述最外廓框架的内侧到宽度方向及幅度方向的距离相同；所述天线部，包括：最外廓天线部件，被布置成从所述最外廓框架的内侧到宽度方向及幅度方向的距离相同；一个以上的内侧天线部件，被布置成从所述内侧框架的内侧及外侧到宽度方向及幅度方向的距离相同。

主权项

1.一种感应场等离子处理装置，其特征在于，包括：腔室主体，其上侧形成X轴方向长度及垂直于X轴方向的Y轴方向长度不同的长方形开口部；电介质组装体，设置成覆盖所述长方形开口部，包括多个长方形电介质及支撑所述多个电介质的格子框架；基板支架，设置在所述腔室主体而支撑基板；气体喷射部，向处理空间喷射气体；天线部，设置在所述电介质组装体的上部，在所述处理空间形成感应场，其中，所述格子框架具有n×m排列的长方形开口，其中n及m为3以上的自然数，且所述格子框架包括：长方形形状的最外廓框架，以所述X轴方向长度及垂直于X轴方向的Y轴方向的长度不同所述长方形开口部为基准而形成最外廓；长方形形状的一个以上的内侧框架，位于所述最外廓框架的内侧；其中，所述内侧框架为，从所述最外廓框架的内侧到所述内侧框架的外侧的X轴方向以及Y轴方向的距离相同；所述多个电介质中，位于所述腔室主体的开口部的顶点处的电介质，其平面形状为正方形，且所述天线部，包括：最外廓天线部件，配置在所述最外廓框架的内侧；一个以上的内侧天线部件，配置在所述最外廓天线部件的内侧；其中，所述最外廓天线部件为，从所述最外廓框架的内侧到所述最外廓天线部件的外侧的X轴方向以及Y轴方向的距离相同；一个以上的所述内侧天线部件为，从所述内侧框架的内侧及外侧中向着所述内侧天线部件的一侧到所述内侧天线部件的内侧以及外侧中向着所述内侧框架侧的X轴方向以及Y轴方向的距离相同。