[发明专利]防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件有效
| 申请号： | 201510594528.0 | 申请日： | 2015-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN105446073B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 関原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的一种在制造以及处理容易的同时，使装着后的光掩模变形极小的防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件。本发明的防尘薄膜组件框架，具有框状的防尘薄膜组件框架本体和从与该防尘薄膜组件框架本体的防尘薄膜绷紧设置的面的相对面沿着防尘薄膜组件框架本体的内面，以具有防尘薄膜组件框架本体的幅度的5～30％的厚度垂直伸出的垂直伸出部，另外，从所述垂直伸出部的终端向着外侧，以与防尘薄膜绷紧设置的面相平行地伸出的厚度为0.3～1mm的水平伸出部。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘薄膜组件框架 垂直伸出部 防尘薄膜 绷紧 伸出 防尘薄膜组件 水平伸出部 光掩模 相对面 框状 内面 平行 变形 垂直 终端 制造 | ||
【主权项】：
1.一种防尘薄膜组件框架，具有框状的防尘薄膜组件框架本体，其特征在于：从与所述防尘薄膜组件框架本体的防尘薄膜被绷紧设置的面的相反的面，沿着所述防尘薄膜组件框架本体的内面延伸的，具有所述防尘薄膜组件框架本体的幅度的5～30％的厚度的垂直伸出部以及从所述垂直伸出部的终端向着外侧以与防尘薄膜被绷紧设置的面相平行地延伸的厚度为0.3～1mm的水平伸出部，所述水平伸出部的光掩膜侧的大致整个面上设置有光掩模粘着剂层。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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