[发明专利]一种光照还原有机薄膜制备石墨烯的方法在审
| 申请号： | 201510595167.1 | 申请日： | 2015-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN105174250A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 任天令;陶璐琪;邓宁勤;田禾;刘莹;杨轶 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光照还原有机薄膜制备石墨烯的方法，属于材料制备领域。所述石墨烯制备方法包括：采用激光光源对酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行辐照，在所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料表面得到石墨烯。上述石墨烯制备方法可低成本制备大面积石墨烯材料，操作简单易行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光照 还原 有机 薄膜 制备 石墨 方法 | ||
【主权项】：
一种光照还原有机薄膜制备石墨烯的方法，其特征在于，所述方法包括：采用激光光源对酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行辐照，在所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料表面得到石墨烯。
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