[发明专利]用于集成电路的工艺变化分析的方法有效
| 申请号： | 201510603715.0 | 申请日： | 2015-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN105447222B | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 郭晋诚;徐恭铭;胡伟毅;詹伟闵;管瑞丰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供用于集成电路的工艺变化分析的方法及对应的系统。根据器件参数和工艺参数，生成描述集成电路的电子器件的网表。工艺参数包括电子器件单独的局部工艺参数和电子器件共用的全局工艺参数。识别关键电子器件，该关键电子器件包括对集成电路的设计规范的性能参数具有最大贡献的器件参数。确定用于关键电子器件的全局工艺参数和局部工艺参数的敏感度值。敏感度值代表一个或多个性能参数对关键电子器件的全局和局部工艺参数的变化有多敏感。基于敏感度值对Monte Carlo(MC)样本进行分类。 | ||
| 搜索关键词： | 电子器件 集成电路 局部工艺 敏感度 工艺变化 器件参数 全局 设计规范 性能参数 最大贡献 网表 样本 分析 个性 敏感 分类 | ||
【主权项】：
1.一种用于集成电路的工艺变化分析的方法，所述方法包括：生成网表，所述网表通过器件参数和工艺参数描述集成电路的电子器件，其中，所述工艺参数包括所述电子器件单独的局部工艺参数和所述电子器件共用的全局工艺参数；识别关键电子器件，所述关键电子器件包括对所述集成电路的设计规范的一个或多个性能参数具有最大贡献的器件参数；确定用于所述关键电子器件的全局工艺参数和局部工艺参数的敏感度值，其中，所述敏感度值代表所述一个或多个性能参数对于所述关键电子器件的全局工艺参数和局部工艺参数的变化有多敏感；以及基于所述敏感度值对Monte Carlo(MC)样本进行分类，其中，MC样本是用于工艺参数的值的向量，其中，对MC样本进行分类包括：确定所述MC样本出现的概率；基于所述敏感度值，估计用于所述MC样本的一个或多个性能参数的值；基于估计的值和所述概率，确定用于所述MC样本的得分；以及根据所述得分，按顺序布置所述MC样本。
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