[发明专利]一种改善晶圆形变的曝光载片台有效
| 申请号： | 201510608938.6 | 申请日： | 2015-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN105159035B | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 蔡亮;吴鹏;陈力钧 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种改善晶圆形变的曝光载片台。本发明应用于通过曝光机向载片台上方的硅片进行曝光的过程中，硅片放置于载片台的正上方，载片台上设置有吸真空孔，载片台的表面涂有涂层，涂层的摩擦系数μ为0.4‑0.8，涂层的导热系数λ为20‑400W/m.k。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 圆形 曝光 载片台 | ||
【主权项】：
1.一种改善晶圆形变的曝光载片台，硅片放置于载片台的正上方，所述载片台上设置有吸真空孔，其特征在于，所述载片台的表面涂有涂层，所述涂层的摩擦系数μ为0.4-0.8，所述涂层的导热系数λ为20-400W/m.k。
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