[发明专利]用于银纳米线的蚀刻剂组合物有效
| 申请号： | 201510612281.0 | 申请日： | 2015-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN105463462B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 权玟廷;沈庆辅;张尚勋 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 徐川;姚开丽 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于沉积在柔性显示器用膜上的银纳米线的蚀刻剂组合物，该蚀刻剂组合物包含磷酸、硝酸、乙酸和氟化合物。它可快速渗透到由于涂覆有保护涂层材料而难以进行图案化和蚀刻处理的银纳米线中，切断银纳米线，除去其导电性，因而蚀刻速率得到提高，由此它可提高蚀刻处理的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积在柔性显示器用膜上的银纳米线的蚀刻剂组合物，所述蚀刻剂组合物包含，基于组合物的总重量，包含：50～70重量％的磷酸；5～9重量％的硝酸；5～20重量％的乙酸；0.5～2重量％的氟化合物；以及余量的去离子水；其中，所述银纳米线涂覆有保护涂层材料。
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