[发明专利]一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置有效
| 申请号： | 201510617500.4 | 申请日： | 2015-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN105116685B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 隆清德;康玉龙;梁元;张智勇;樊利伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/42;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置，涉及显示技术领域，可形成窄线宽的黑矩阵，提高显示装置的透过率和开口率。该方法包括：在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层，并在第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶，形成第二光刻胶层；对第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶，得到第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案；对第一光刻胶图案和第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除第一光刻胶图案，保留第二光刻胶图案。该方法可应用于彩色滤光片的制作过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 图案 制作方法 彩色 滤光 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶图案的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层，并在所述第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶，形成第二光刻胶层；对所述第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除所述第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及所述第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶，得到所述第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和所述第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案，其中，所述第一光刻胶图案的线宽大于所述第二光刻胶图案的线宽，所述第一区域在所述衬底基板上的投影位于所述第二区域在所述衬底基板上的投影内；对所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除所述第一光刻胶图案，保留所述第二光刻胶图案，包括：从所述衬底基板的上侧对所述第一光刻胶图案进行所述第二次曝光，从所述衬底基板的下侧对所述第二光刻胶图案进行所述第二次曝光；使用显影液进行所述第二次显影，以去除所述第一光刻胶图案，并保留所述第二光刻胶图案。
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