[发明专利]用于制造石英晶体谐振器的晶体基板的加工方法有效

专利信息
申请号: 201510620846.X 申请日: 2015-09-25
公开(公告)号: CN105141271B 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 柴昆鹏;魏光辉;王骥;许萍;白长庚;朱木典 申请(专利权)人: 江苏海峰电子有限公司
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02
代理公司: 连云港润知专利代理事务所32255 代理人: 刘喜莲
地址: 222300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种用于制造石英晶体谐振器的晶体基板的加工方法,该方法利用化学溶剂,并按照预定的侵蚀区域大小、侵蚀时间来加工侵蚀晶体基板,从而实现晶体基板指定区域厚度按预定的设计形式改变,实现化学腐蚀的倒边效果,再制成晶体谐振器;所述的化学溶剂氟化氢氨NH4HF2溶液。该加工方法可以采用分段分区侵蚀,具有成本低、时间短、表面伤害可控、工损少等特点,是一种新型的石英晶体加工技术和方法,可提升谐振器的电性能参数。其优点是由于本方法能够改变材料性能参数,造成所设计的晶体板厚度或者刚度的特定模式变化,实现晶体谐振器的能陷性能,保证剪切振动在晶体板的边缘很小,以此减少能量向外部的扩散,实现强化剪切振动的目标。
搜索关键词: 用于 制造 石英 晶体 谐振器 加工 方法
【主权项】:
一种用于制造石英晶体谐振器的晶体基板的加工方法,其特征在于:该方法利用化学溶剂,并按照预定的侵蚀区域大小、侵蚀时间来加工侵蚀晶体基板,从而实现晶体基板指定区域厚度按预定的设计形式改变,实现化学腐蚀的倒边效果,再制成晶体谐振器;所述的化学溶剂氟化氢氨NH4HF2水溶液;化学溶剂侵蚀方法是通过控制侵蚀时间、化学溶剂浓度来实现晶体基板分段分区的厚度和刚度的改变;通过分段加工,将需要改变厚度的长度分成若干等分,然后从边缘到中间部位,腐蚀时间逐段递减,实现厚度改变逐段减少,形成厚度梯度变化的加工效果。
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