[发明专利]具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统和方法在审

专利信息
申请号: 201510623391.7 申请日: 2015-09-27
公开(公告)号: CN105137724A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 毛晓明;毛智彪 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统和方法。将激光发生器产生的激光照射在第一反射镜上,以反射至微型反射镜阵列;操控反射镜阵列,调整每一个微小反射镜单元倾斜特定角度,使入射激光经反射镜阵列后形成瞳面形状;通过分光部件把激光的第一部分投射到瞳面质量监测元件上,通过光强数值来获取完整瞳面信息,判断是否需要调整反射镜阵列;如果判定不需要,使得激光的第二部分被第二反射镜反射以进入后续光路进行后续调整;如果判定需要调整,将瞳面质量信息经过计算处理得到反射镜阵列中每一个微型反射镜单元所需要调整的角度,然后反馈给反射镜阵列,并且射镜阵列根据所述所需要调整的角度进行角度调整以校准瞳面。
搜索关键词: 具有 质量 监测 校准 功能 光刻 照明 系统 方法
【主权项】:
一种具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统,其特征在于包括:激光发生器,用于产生照射在第一反射镜上的激光;第一反射镜,用于把入射激光反射至微型反射镜阵列;反射镜阵列,用于调整每一个微小反射镜单元倾斜特定角度,使得入射激光经反射镜阵列后形成瞳面形状;分光部件,用于把已经成瞳面形状的激光的第一部分投射到瞳面质量监测元件上,并且用于把已经成瞳面形状的激光的第二部分被第二反射镜反射;瞳面质量监测元件,用于获取的光强数值来获取完整瞳面信息,并且将获取的光强数值来获取完整瞳面信息传递给第一计算单元和第二计算单元;第一计算单元,用于根据接收的瞳面信息来判断是否需要调整反射镜阵列;第二计算单元,用于根据接收的瞳面信息来进行计算处理以得到反射镜阵列中每一个微型反射镜单元所需要调整的角度,然后反馈给反射镜阵列;反射镜阵列调整单元,用于根据所述所需要调整的角度进行角度调整以校准瞳面。
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