[发明专利]阵列基板、透光钝化膜及液晶显示面板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510624658.4 申请日: 2015-09-25
公开(公告)号: CN105116589A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: 赵阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1343
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种阵列基板的制造方法,该方法包括:在衬底基材上形成第一透光导电膜;在不超过200℃的温度下于第一透光导电膜上形成透光钝化膜;在透光钝化膜上形成第二透光导电膜。本发明还提供一种透明钝化膜及液晶显示面板的制造方法。本发明能够减少产生于钝化层的表面上的颗粒状的突起,提高液晶显示面板的穿透率。
搜索关键词: 阵列 透光 钝化 液晶显示 面板 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基材上形成第一透光导电膜;在不超过200℃的温度于所述第一透光导电膜上形成透光钝化膜;在所述透光钝化膜上形成第二透光导电膜。
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