[发明专利]阵列基板、透光钝化膜及液晶显示面板的制造方法在审
申请号: | 201510624658.4 | 申请日: | 2015-09-25 |
公开(公告)号: | CN105116589A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 赵阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1343 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种阵列基板的制造方法,该方法包括:在衬底基材上形成第一透光导电膜;在不超过200℃的温度下于第一透光导电膜上形成透光钝化膜;在透光钝化膜上形成第二透光导电膜。本发明还提供一种透明钝化膜及液晶显示面板的制造方法。本发明能够减少产生于钝化层的表面上的颗粒状的突起,提高液晶显示面板的穿透率。 | ||
搜索关键词: | 阵列 透光 钝化 液晶显示 面板 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基材上形成第一透光导电膜;在不超过200℃的温度于所述第一透光导电膜上形成透光钝化膜;在所述透光钝化膜上形成第二透光导电膜。
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