[发明专利]用于氟喹诺酮类抗生素的分子印迹聚合物填料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510631703.9 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN105175611A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 唐利;邱江平;娄可心;倪萍;李银生;谭学军 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C08F220/06 分类号: C08F220/06;C08F222/14;C08K9/06;C08K3/36;C08K3/04;B01J20/26;B01J20/30
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王毓理;王锡麟
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种用于氟喹诺酮类抗生素的分子印迹聚合物填料的制备方法,包括:以正硅酸乙酯为硅源,聚醚F127为模板,在CTAB-水系中制备纳米介孔硅微粒;通过对纳米介孔硅微粒进行氨基官能化,以葡萄糖为碳源制备空载的纳米介孔碳微粒;以甲基丙烯酸为单体,三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯为交联剂,以加入官能团的MCNs和诺氟沙星为模板分子,制备搭载分子印迹聚合物的纳米介孔碳;本发明对氟喹诺酮类抗生素具有识别和选择吸附的功能,显著提高吸附效果,且易于回收和再生。
搜索关键词: 用于 喹诺酮类 抗生素 分子 印迹 聚合物 填料 制备 方法
【主权项】:
一种用于氟喹诺酮类抗生素的分子印迹聚合物填料的制备方法,其特征在于,以甲基丙烯酸为单体,三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯为交联剂,以官能团化的纳米介孔碳和诺氟沙星为模板分子,通过聚合反应制备出分子印迹聚合物填料。
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