[发明专利]一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统

摘要

本发明提供一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，包括温度监控模块、温度处理控制模块和温度控制执行模块；温度监控模块用于实时采集曝光光源内部工作温度，并将曝光光源内部工作温度的测量值输出至温度处理控制模块；温度处理控制模块用于根据预设的曝光光源内部工作温度的目标基准值及其允许误差范围，对曝光光源内部工作温度的测量值进行处理，并根据处理结果输出控制信号至温度控制执行模块；温度控制执行模块用于根据温度处理控制模块发送的控制信号对曝光光源内部工作温度进行控制。本发明能够准确、快速地进行直写式光刻机曝光光源内部工作温度的自动控制，成本低、便于维护。

主权项

一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：该系统包括温度监控模块、温度处理控制模块和温度控制执行模块；所述温度监控模块，用于实时采集曝光光源内部工作温度，并将所述曝光光源内部工作温度的测量值输出至温度处理控制模块；所述温度处理控制模块，用于根据预设的曝光光源内部工作温度的目标基准值及其允许误差范围，对所述曝光光源内部工作温度的测量值进行处理，并根据处理结果输出控制信号至温度控制执行模块；所述温度控制执行模块，用于根据所述温度处理控制模块发送的控制信号对曝光光源内部工作温度进行控制；所述温度控制执行模块包括第一散热片、第一导热硅脂、珀尔帖效应元件、第二导热硅脂和第二散热片，所述第一散热片、第一导热硅脂和珀尔帖效应元件集成于曝光光源内部，所述第二导热硅脂和第二散热片设置在曝光光源外部；所述第一散热片通过第一导热硅脂连接珀尔帖效应元件的制冷端，所述珀尔帖效应元件的散热端通过第二导热硅脂连接第二散热片，所述珀尔帖效应元件的电流控制端连接温度处理控制模块的控制输出端。