[发明专利]一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法

摘要

本发明涉及一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，该光刻胶包括：环氧丙烯酸酯5％-20％、紫外光引发剂1％-5％、乙二醇单异丙基醚30％-70％、活性稀释剂10％-15％、表面活性剂10％-20％、有机硅杂化材料5％-10％、其他微量助剂0.5％-2％。在无紫外光的条件下，先往反应釜中加入乙二醇单异丙基醚，在80转/分钟的搅拌下加入活性稀释剂、环氧丙烯酸酯，3分钟后加入紫外光引发剂，待完全溶解后加入表面活性剂、有机硅杂化材料和微量助剂。5分钟后用2000目滤网过滤得成品。该成品透明均一、有良好的储存性能，且粘度较低，硅杂化材料有效保证了其抗刻蚀性能，能得到高分辨率的纳米图案。

主权项

一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，该配方体系包括：环氧丙烯酸酯5%‑20%、紫外光引发剂1%‑5%、乙二醇单异丙基醚30%‑70%、活性稀释剂10%‑15%、表面活性剂10%‑20%、有机硅杂化材料5%‑10%、其他微量助剂0.5%‑2%。