[发明专利]制备过渡金属硫族化物的方法有效
申请号: | 201510638382.5 | 申请日: | 2015-09-30 |
公开(公告)号: | CN106555167B | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 阙郁伦;麦迪纳;陈雨泽 | 申请(专利权)人: | 阙郁伦 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种制备过渡金属硫族化物的方法,其可于150至500度的基板温度以及25至760托耳的制程环境下生产过渡金属硫族化物。且本发明采用的硫族元素来源是采用加热硫族固体源并对其离子化的方式以取得硫族元素等离子体,所以在本发明中可避免去使用习知制备过渡金属硫族化物技术中的剧毒硫化氢气体。 | ||
搜索关键词: | 硫族化物 制备过渡金属 硫族元素 等离子体 硫化氢气体 过渡金属 固体源 离子化 基板 硫族 托耳 制程 加热 剧毒 生产 | ||
【主权项】:
1.一种制备过渡金属硫族化物的方法,其步骤包含:准备步骤,提供过渡金属基板、反应气体源及硫族元素固体源;汽化步骤,加热所述硫族元素固体源而产生硫族元素气体;沉积步骤,通入所述反应气体源以辅助离子化所述硫族元素气体产生硫族元素等离子体,并加热所述过渡金属基板使所述硫族元素等离子体于所述过渡金属基板的表面生成过渡金属硫族化物层;以及控制转换步骤,控制所述反应气体源的流量比率以改变所述硫族元素等离子体反应为过渡金属硫族化物层的转换效率,所述反应气体源为氮气及氢气;其中所述沉积步骤中,所述反应气体源及所述硫族元素气体是由上而下通入于所述过渡金属基板的上方,所述沉积步骤的制程真空度为低真空度至常压,所述沉积步骤的制程温度为150至500度,分别执行所述汽化步骤及所述沉积步骤于相异制程空间内,使加热所述硫族元素固体源并不影响所述制程温度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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