[发明专利]包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致抗蚀剂组合物和电子装置形成方法

摘要

聚合物包括重复单元，所述重复单元中的至少一半是光酸产生重复单元。所述光酸产生重复单元中的每一个包括光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。所述聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分，所述光致抗蚀剂组合物进一步包括在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化的第二聚合物。

主权项

1.一种聚合物，其包含以全部重复单元的100摩尔％计50到100摩尔％的光酸产生重复单元，其中所述光酸产生重复单元中的每一个包含(a)光酸产生官能团和(b)碱溶解度增强官能团，所述碱溶解度增强官能团选自由以下各者组成的群组：叔羧酸酯、其中仲碳经至少一个未被取代或被取代的C_6‑40芳基取代的仲羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α‑氟化酯、β‑氟化酯、α,β‑氟化酯、聚亚烷基二醇、α‑氟化醇和其组合，其中所述光酸产生重复单元具有结构其中R¹在所述重复单元中的每一个中独立地为H、F、‑CN、C_1‑10烷基或C_1‑10氟烷基；L¹在所述重复单元中的每一个中独立地为‑O‑、‑C(O)‑O‑、未经取代的C_6‑18亚芳基或被取代的C_6‑18亚芳基；m在所述重复单元中的每一个中独立地为0或1；L²在所述重复单元中的每一个中独立地为未被取代或被取代的C_1‑20亚烃基，其中所述被取代的C_1‑20亚烃基可以任选地包括一个或多个链中含二价杂原子的基团，所述链中含二价杂原子的基团为‑O‑、‑S‑、‑NR²、‑PR²‑、‑C(O)‑、‑OC(O)O‑、‑N(R²)C(O)‑、‑C(O)N(R²)‑、‑OC(O)N(R²)‑、‑N(R²)C(O)O‑、‑S(O)‑、‑S(O)₂‑、‑N(R²)S(O)₂‑、‑S(O)₂N(R²)‑、‑OS(O)₂‑或‑S(O)₂O‑，其中R²是H或C_1‑12烃基；Z^‑在所述重复单元中的每一个中独立地为‑SO₃^‑；‑S(O)₂N^‑R³，其中R³是H或未被取代或被取代的C_1‑12烃基；或‑S(O)₂N^‑S(O)₂R³，其中R³是H或未被取代或被取代的C_1‑12烃基；且Q⁺是光酸产生阳离子；其中L¹、L²和Q⁺中的至少一个包含所述碱溶解度增强官能团。