[发明专利]一种光臂放大式一维线性测头

摘要

本发明公开了一种光臂放大式一维线性测头，包括：用于发射激光束的激光源，用于反射激光源发射的激光束的测头基座，测头基座包括至少一个反射面，测头基座上设有用于检测的测杆和测球，用于接收测头基座上反射面反射的激光束的光电探测器，用于使测头基座，或光电探测器与测头基座一起做直线运动的平移部件，以改变测头基座反射面上的激光束反射点位置；以及根据光电探测器上所接收到的激光束反射位置变化值计算得到测球位移变化值的处理系统。该测头能够测量得到测头在与被测工件接触导致测头的一维位移，以补偿被测工件定位时的测量偏差，获得更为准确的测量坐标，提高了测量的精度；该测头简化了结构，降低了生产成本，易于批量加工制造。

主权项

1.一种光臂放大式一维线性测头，其特征在于，包括：激光源(1)，用于发射激光束(2)；测头基座(4)，包括至少一个反射面(5)，用于反射所述激光源(1)发射的激光束(2)，所述测头基座(4)上设有用于检测的测杆(6)和测球(7)；光电探测器(3)，用于接收所述测头基座(4)上反射面(5)反射的激光束(2)，所述激光束(2)入射到所述测头基座(4)上，所述测头基座(4)上的反射面(5)将激光束反射出去，并入射到所述光电探测器(3)上；所述光电探测器(3)能够旋转；平移部件，用于使所述测头基座(4)做直线运动，或用于使所述测头基座(4)与光电探测器(3)共同做直线运动，以改变所述测头基座(4)反射面(5)上的激光束(2)反射点位置；回复部件(9)，用于将所述测头基座(4)回复至初始位置，或将所述测头基座(4)与光电探测器(3)共同回复至初始位置；处理系统，根据所述光电探测器(3)上所接收到的激光束(2)反射位置变化值，计算得到所述测球(7)的位移变化值。