[发明专利]微光学成像薄膜及成像装置在审
申请号: | 201510661376.1 | 申请日: | 2015-10-14 |
公开(公告)号: | CN106597581A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 张健 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 215316 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请涉及光学薄膜技术领域,其公开了一种微光学成像薄膜及成像装置。该微光学成像薄膜包括本体;所述本体上形成有聚焦结构和图文结构,所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像;至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构,所述包覆结构和所述聚焦结构的制成材料不同,并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。通过本申请实施例所公开的技术方案,可以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。 | ||
搜索关键词: | 微光 成像 薄膜 装置 | ||
【主权项】:
一种微光学成像薄膜,其特征在于,包括:本体;所述本体上形成有聚焦结构和图文结构,所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像;至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构,制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同,所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。
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