[发明专利]一种氢化铍涂层材料的制备方法及装置在审
| 申请号： | 201510665321.8 | 申请日： | 2015-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN105177508A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 张吉强;罗江山;李恺;罗炳池;金雷;何玉丹;陈龙;吴卫东 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/06 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种氢化铍涂层材料的制备方法及装置。本发明通过射频原子源，将氢气离化形成活性氢原子射流，与蒸发的铍原子在气相中或者基片上发生氢化反应生成氢化铍沉积在基片上。采用离化源，使不与铍原子反应的氢分子离化成高活性的氢自由基，氢自由基易与蒸发铍原子氢化反应，生成氢化铍沉积在基片上。所述的装置有效的屏蔽了高能量电子、离子、蒸发源热辐射对样品的损伤。本发明只采用了铍、氢两种元素作为反应原料，不会引入其它杂质，因此可以制备高纯度的氢化铍材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氢化 涂层 材料 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种氢化铍涂层材料的制备方法，其特征在于所述的制备方法包括以下步骤：a． 高纯氢气在射频电感耦合放电条件下产生氢等离子体；b． 氢分子分离形成氢原子从喷口喷出，形成活性氢原子射流；c． 在活性氢原子氛围中蒸发金属铍，铍原子与氢原子在气相中或基片上反应生成气相氢化铍分子；d． 气相氢化铍分子凝聚、沉积形成氢化铍涂层。
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