[发明专利]射束引出狭缝结构及离子源有效
| 申请号： | 201510665760.9 | 申请日： | 2015-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN105529236B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 佐藤正辉 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种有助于提高离子注入装置的生产率的射束引出狭缝结构及离子源。本发明的射束引出狭缝结构具备：等离子室内侧表面(66)，使用时与等离子接触；等离子室外侧表面(67)，与引出电极对置；及狭缝表面部(68)，在射束引出方向上在等离子室内侧表面(66)与等离子室外侧表面(67)之间形成射束引出狭缝(42)。狭缝表面部(68)具备：等离子界面固定部(69)，将等离子的等离子界面保持为固定；及等离子界面非固定部(70)，将等离子的等离子界面保持为可向射束引出方向移动。等离子界面固定部(69)形成于狭缝长边方向上的等离子的高密度区域。等离子界面非固定部(70)形成于狭缝长边方向上的等离子的低密度区域。 | ||
| 搜索关键词： | 引出 狭缝 结构 离子源 | ||
【主权项】：
1.一种射束引出狭缝结构，其为与引出电极相邻的离子源等离子室的射束引出狭缝结构，其特征在于，所述引出电极从所述射束引出狭缝结构的细长狭缝向射束引出方向隔着间隙配置，所述细长狭缝沿着与所述射束引出方向正交的狭缝长边方向延伸，所述射束引出狭缝结构具备：等离子室内侧表面，使用时与等离子接触；等离子室外侧表面，与所述引出电极对置；及细长狭缝表面，在所述射束引出方向上在所述内侧表面与所述外侧表面之间形成所述细长狭缝，所述细长狭缝表面具备：等离子界面固定部，将所述等离子的等离子界面保持为固定；及等离子界面非固定部，将所述等离子的等离子界面保持为能够向所述射束引出方向移动，所述等离子界面固定部形成于所述狭缝长边方向上的细长狭缝中央部，所述等离子界面非固定部形成于所述狭缝长边方向上的细长狭缝端部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友重机械离子技术有限公司，未经住友重机械离子技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510665760.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种干法刻蚀装置及方法
- 下一篇：一种可限定开关在分合闸位置的电操机构
